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https://researchmap.jp/yoshihiromori

Research funding number

00793332

Research Interests

• イノベーション・マネジメント
• 技術経営
• 標準化

Research Areas

• Humanities & social sciences / Business administration / Innovation Management
• Nanotechnology/Materials / Analytical chemistry / 全反射蛍光X線分析

Research Experience

• Kyushu University, School of Engineering, 非常勤講師, 2024/04 - Today
• 同志社大学, 大学院ビジネス研究科ビジネス専攻, 教授, 2022/04 - Today
• 大阪公立大学, 工学部, 非常勤講師, 2021/09 - Today
• 同志社女子大学, 学芸学部メディア創造学科, 嘱託講師, 2020/04 - 2025/03
• 株式会社堀場アドバンスドテクノ, コーポレートオフィサー 開発本部長, 2020/04 - 2022/03
• 株式会社堀場アドバンスドテクノ, 開発本部長, 2017/01 - 2020/03
• 株式会社堀場製作所, 液体計測開発部, 部長, 2015/01 - 2016/12
• 株式会社堀場製作所, 液体計測開発部, 技術担当部長, 2012/06 - 2014/12
• シルトロニック・ジャパン株式会社, R&Dグループ 洗浄分析チーム, チームリーダー, 2001/10 - 2012/05
• 新日本製鐵株式会社, 先端技術研究所, 主任研究員, 1998/04 - 2001/09
• 新日本製鐵株式会社, エレクトロニクス研究所, 研究員, 1991/04 - 1998/03

Education

• Doshisha University, 大学院ビジネス研究科, ビジネス専攻, 2015/04 - 2018/03
• Kobe University, Graduate School of Science, 化学専攻, 1989/04 - 1991/03
• Kobe University, Faculty of Science, Department of Chemistry, 1985/04 - 1989/03
• 兵庫県立八鹿高等学校, 1982/04 - 1985/03

Degree

• Doctor of Engineering, Kyushu University, Mar. 1999
• MBA, Doshisha University, Mar. 2018
• Master of Science, Kobe University, Mar. 1991

Association Memberships

• 日本マーケティング学会, May 2025, 9999
• 研究イノベーション学会, Oct. 2024, 9999
• 組織学会, Sep. 2022, 9999
• 日本ビジネスモデル学会, Jul. 2021, 9999
• 応用物理学会, Sep. 1992, 9999
• 日本分析化学会, Apr. 1989

Committee Memberships

• イノベーション創出 コアメンバー, 2020/11 - Today, 半導体製造装置協会(SEAJ) 人財開発専門委員会, Others
• ISO/TC201/SC10 Expert, 2014/04 - Today, Society
• ISO/TC201 X線表面分析WG委員, 2012/05 - Today, 表面化学分析技術国際標準化委員会, Society
• JIS K0160 原案作成委員会, 2024/06 - 2025/02, 一般社団法人表面化学分析技術国際標準化委員会
• JIS K0148 原案作成委員会, 2024/06 - 2025/02, 一般社団法人表面化学分析技術国際標準化委員会, Others
• 運営委員, 2020/04 - 2022/03, 未来のくらしと水の科学研究会, Society
• STRJ WG11 Yield Enhancement 委員, 2014/04 - 2022/03, JEITA, Society
• ISO 20289 JIS原案作成委員会 委員, 2020/08 - 2021/03, Society
• 「X線分析の進歩」編集委員, 2004/04 - 2018/03, Society
• TXRF WG 幹事, 2007/04 - 2012/04, 表面化学分析技術国際標準化委員会, Society
• Secretary, 2004/04 - 2012/03, ISO/TC201/WG2, Society
• Si Wafer Committee 委員 兼 Non-Prime Wafer Task Force 共同リーダー, 2005/06 - 2008/06, Semiconductor Equipment and Materials Institute (SEMI), Society
• ISO 17331 JIS原案作成委員会分科会, 2006/09 - 2007/07, Society
• TXRF WG, 1999/08 - 2007/03, 表面化学分析技術国際標準化委員会, Society
• Expert, 1999/08 - 2004/03, ISO/TC201/WG2, Society
• ISO 14706 JIS原案作成委員会分科会, 2002/09 - 2003/07, Society
• 材料部会, 1993/04 - 1995/07, UC標準化委員会, Society

Awards

• Siltronic Inventor Award 2007
  Jul. 2007, "Most active inventor"
• Semiconductor Equipment and Materials Institute (SEMI) Technical Committee Award 2006
  Dec. 2006, "Outstanding achievement in the advancement of SEMI International Standards"
• ISSM2004 Best Paper Award
  Sep. 2004, "Sweeping-TXRF: A Nondestructive Technique for the Entire-Surface Characterization of Metal Contaminations on Semiconductor Wafers"
• 奨励賞
  Sep. 2002, 日本分析化学会, "全反射蛍光X線分析用シリコンウェーハ標準試料の開発と応用"

Published Papers

• High-accuracy total reflection X-ray fluorescence analysis for determining trace elements using substrate cleaned by ammonia-hydrogen peroxide mixture
  Tsugufumi Matsuyama; Yudai Tanaka; Yoshihiro Mori; Kouichi Tsuji
  Talanta, Elsevier BV, 265 124808 - 124808, Jun. 2023, Scientific journal
  

  DOI URL
• Engineers’cognitive biases against emerging technologies
  Mori Yoshihiro; Kita Toshiro
  Business Model Association Journal, BUSINESS MODEL ASSOCIATION, 21(1) 15 - 29, 01 Jun. 2021
  

  DOI URL
• Vapor phase treatment–total reflection X-ray fluorescence for trace elemental analysis of silicon wafer surface
  Hikari Takahara; Yoshihiro Mori; Harumi Shibata; Ayako Shimazaki; Mohammad B. Shabani; Motoyuki Yamagami; Norikuni Yabumoto; Kazuo Nishihagi; Yohichi Gohshi
  Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy, Elsevier BV, 90 72 - 82, Dec. 2013, Scientific journal
  

  DOI URL
• Method and mechanism of vapor phase treatment–total reflection X-ray fluorescence for trace element analysis on silicon wafer surface
  Hikari Takahara; Yoshihiro Mori; Ayako Shimazaki; Yohichi Gohshi
  Spectrochimica Acta Part B: Atomic Spectroscopy, Elsevier BV, 65(12) 1022 - 1028, Dec. 2010, Scientific journal
  

  DOI URL
• Sweeping-TXRF: A nondestructive technique for the entire surface characterization of metal contaminations on semiconductor wafers
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uemura; Hiroshi Kohno; Motoyuki Yamagami; Yoshinori Iizuka
  IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, 18(4) 569 - 573, Nov. 2005, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• Summary of ISO/TC 201 Standard: XIX ISO 17331:2004 - Surface chemical analysis - Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection x-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
  Yoshihiro Mori
  Surface and Interface Analysis, 37(5) 522 - 523, May 2005, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• Detection of unknown localized contamination on silicon wafer surface by sweeping-total reflection X-ray fluorescence analysis
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uemura; Hiroshi Kohno; Motoyuki Yamagami; Takashi Yamada; Kousuke Shimizu; Yoshinobu Onizuka; Yoshinori Iizuka
  Spectrochimica Acta - Part B Atomic Spectroscopy, 59(8) 1277 - 1282, 31 Aug. 2004, International conference proceedings
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• Development of a standard sample preparation method for total-reflection X-ray fluorescence analysis and its semiconductor applications
  MORI Yoshihiro; UEMURA Kenichi
  BUNSEKI KAGAKU, The Japan Society for Analytical Chemistry, 53(2) 61 - 69, 2004, Scientific journal
  

  DOI URL
• Total-reflection X-ray fluorescence analysis for semiconductor process characterization
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uemura
  Spectrochimica Acta - Part B Atomic Spectroscopy, 58(12) 2085 - 2092, 15 Dec. 2003, International conference proceedings
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• 入射X線高次線を有効利用した二波長同時励起全反射蛍光X線分析
  森 良弘; 上村 賢一; 松尾 勝
  X線分析の進歩, 34 165 - 172, Mar. 2003, Scientific journal
• Whole-surface analysis of semiconductor wafers by accumulating short-time mapping data of total-reflection x-ray fluorescence spectrometry
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uernura; Yoshinori Iizuka
  Analytical Chemistry, 74(5) 1104 - 1110, 01 Mar. 2002, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• TXRF for Semiconductor Applications
  Yoshihiro Mori
  Advances in X-Ray Analysis, 45 523 - 532, 2002, International conference proceedings
• Sensitive detection of trace copper contamination on a silicon wafer by total reflection X-ray fluorescence using W-Lβ or Au-Lβ excitation source
  Takashi Yamada; Masaru Matsuo; Hiroshi Kohno; Yoshihiro Mori
  Spectrochimica Acta - Part B Atomic Spectroscopy, 56(11) 2307 - 2312, 30 Nov. 2001, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• A method of locating dried residue on a semiconductor wafer in vapor phase decomposition-total-reflection X-ray fluorescence spectrometry by monitoring scattered X-rays
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uemura; Motoyuki Yamagami; Takashi Yamada
  Spectrochimica Acta - Part B Atomic Spectroscopy, 56(11) 2293 - 2300, 30 Nov. 2001, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• Comparison of grazing-exit particle-induced X-ray emission with other related methods
  Kouichi Tsuji; Marc Huisman; Zoya Spolnik; Kazuaki Wagatsuma; Yoshihiro Mori; René E. Van Grieken; Ronald D. Vis
  Spectrochimica acta, Part B: Atomic spectroscopy, 55(7) 1009 - 1016, 01 Jul. 2000, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• Multi-batch preparation of standard samples from a single doped solution for cross-checking in surface metal analyses of silicon wafers
  Y. Mori; K. Uemura
  Analytical Sciences, 16(9) 987 - 989, 2000, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• 全反射蛍光X線分析に用いられる標準試料の作製とその高精度分析への応用に関する研究
  森良弘
  九州大学博士論文, Mar. 1999, Doctoral thesis
• Analysis of light elements on Si wafer by vapor-phase decomposition/total reflection X-ray fluorescence.
  YAMAGAMI Motoyuki; NONOGUCHI Masahiro; YAMADA Takashi; SHOJI Takashi; UTAKA Tadashi; MORI Yoshihiro; NOMURA Shigeaki; TANIGUCHI Kazuo; WAKITA Hisanobu; IKEDA Shigerou
  BUNSEKI KAGAKU, The Japan Society for Analytical Chemistry, 48(11) 1005 - 1011, 1999
  

  DOI URL
• Error Factors in Quantitative Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uemura
  X-Ray Spectrometry, 28(6) 421 - 426, 1999, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• Accuracy of Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectrometry near the Detection Limit
  Yoshihiro Mori; Kazuhiko Kubota; Kengo Shimanoe; Tadashi Sakon
  Analytical Sciences, 14(2) 275 - 280, 1998, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• A depth profile fitting model for a commercial total reflection X-ray fluorescence spectrometer
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uemura; Kengo Shimanoe
  Spectrochimica Acta - Part B Atomic Spectroscopy, 52(7) 823 - 828, 01 Jul. 1997, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• 全反射蛍光Ｘ線分析用標準試料に関する一考察
  森良弘; 佐近正
  X線分析の進歩, 27 59 - 70, Mar. 1996, Scientific journal
• Study of Depth Distribution Shift of Copper on Silicon Wafer Surface Using Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectrometry
  Yoshihiro Mori; Kengo Shimanoe
  Analytical Sciences, The Japan Society for Analytical Chemistry, 12(2) 277 - 279, 1996, Scientific journal
  

  DOI URL
• Standard Sample Preparation for the Analysis of Several Metals on Silicon Wafer
  Yoshihiro Mori; Kengo Shimanoe
  Analytical Sciences, The Japan Society for Analytical Chemistry, 12(1) 141 - 143, 1996, Scientific journal
  

  DOI URL
• Adsorption Species of Transition Metal Ions on Silicon Wafer in SC-1 Solution
  Yoshihiro Mori; Kenichi Uemura; Kengo Shimanoe
  Journal of the Electrochemical Society, 142(9) 3104 - 3109, 1995, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL
• A Standard Sample Preparation Method for the Determination of Metal Impurities on a Silicon Wafer by Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectrometry†
  Yoshihiro Mori; Kengo Shimanoe; Tadashi Sakon
  Analytical Sciences, 11(3) 499 - 504, 1995, Scientific journal
  

  DOI URLScopus URLScopus Citedby URL

MISC

• 中小企業でもイノベーションを起こせる！ どこに着目し、何を工夫するべきか
  森良弘
  戦略経営者, 40(4) 34 - 36, 01 Apr. 2025, Others
• なんでそんな安い価格で売るの？
  森良弘
  同志社ビジネスケース 24-1, Sep. 2024
• 10人の会社が自社ブランドで半導体業界に挑む – 有限会社NAS技研 –
  森良弘
  同志社ビジネスケース 23-01, Mar. 2024
• 研究者をたずねて 技術者の『認知バイアス』を解明しビジネスを成功に導くイノベーションマネジメント
  森良弘
  同志社大学 リエゾンオフィス ニューズレター LIAISON, 70 13 - 14, Dec. 2023, Introduction other
• 分析化学から経営学へ
  森良弘
  ぶんせき, (8) 330 , Aug. 2023, Others
• IMPACT OF COGNITIVE BIASES IN TECHNOLOGICAL DECISION-MAKING
  Yoshihiro Mori; Toshiro Kita
  Proceedings of 23rd CINet Conference, 371 - 380, Sep. 2022, Introduction international proceedings
• 2012年X線分析関連文献総合報告
  江場宏美; 国村伸祐; 篠田弘造; 永谷広久; 中野和彦; 保倉明子; 松林信行; 森良弘; 山本孝
  X線分析の進歩, 44 41 - 72, 31 Mar. 2013, Book review
• 2011年X線分析関連文献総合報告
  江場宏美; 篠田弘造; 高山透; 永谷広久; 中野和彦; 原田雅章; 前尾修司; 松林信行; 森良弘; 山本孝
  X線分析の進歩, 43 1 - 31, Mar. 2012, Book review
• 2008年X線分析関連文献総合報告
  石井真史; 栗崎敏; 高山透; 谷田肇; 永谷広久; 中野和彦; 沼子千弥; 林久史; 原田誠; 前尾修司; 松尾修司; 村松康司; 森良弘
  X線分析の進歩, 40 21 - 43, Mar. 2009, Book review
• Reviews on X-Ray Analysis Literatures 2007
  石井真史; 栗崎敏; 高山透; 辻幸一; 沼子千弥; 林久史; 前尾修司; 松尾修司; 村松康司; 森良弘; 横溝臣智; 渡部孝
  X線分析の進歩, 39 27 - 46, Mar. 2008, Book review
• 2006年X線分析関連文献総合報告
  桜井健次; 辻幸一; 中野和彦; 林久史; 松尾修司; 森良弘; 渡辺孝
  X線分析の進歩, 38 67 - 88, Mar. 2007, Book review
• 2005年X線分析関連文献総合報告
  河合潤; 桜井健次; 辻幸一; 林久史; 松尾修司; 森良弘; 渡辺孝
  X線分析の進歩, アグネ技術センタ-, 37(37) 25 - 44, Mar. 2006, Book review
• 全反射蛍光X線分析(TXRF)法による半導体表面汚染分析
  森 良弘
  理学電機ジャーナル, 32(2) 41 - 50, Oct. 2001, Technical report
• Cleaning technology of silicon wafers
  K. Uemura; T. Haibara; Y. Mori
  Nippon Steel Technical Report, 83 61 - 68, Jan. 2001, Technical report
  

  Scopus URLScopus Citedby URL
• Analysis technology of silicon wafers
  M. Komoda; T. Morimoto; Y. Mori
  Nippon Steel Technical Report, 83 69 - 78, Jan. 2001, Technical report
  

  Scopus URLScopus Citedby URL
• Study of standard sample preparation for total reflection X-ray fluorescence spectrometry and of its application to high-accuracy analysis
  MORI Yoshihiro
  BUNSEKI KAGAKU, The Japan Society for Analytical Chemistry, 49(2) 131 - 132, 2000, Introduction scientific journal
  

  DOI URL
• シリコンウェーハの分析技術 (シリコンウェーハ特集)
  薦田 光徳; 森 良弘; 森本 敏弘
  新日鐵技報, 373 64 - 72, 2000, Technical report
• シリコンウェーハの洗浄技術 (シリコンウェーハ特集)
  上村 賢一; 森 良弘; 榛原 照男
  新日鐵技報, 373 56 - 63, 2000, Technical report
• UC Standard: Test Method for Measuring Surface Contamination on Silicon Wafers by Total Reflection X-Ray Fluorescence Spectroscopy
  Working Group; of Materials; UC Standardization Committee
  Ultra Clean Technology, 半導体基盤技術研究会, 8(1) 44 - 82, 1996, Introduction other
  

  URL
• 全反射蛍光X線分析法によるシリコンウェーハ上の不純物の測定方法
  UC標準化委員会材料部会
  ウルトラクリーンテクノロジー, 7 312 - 343, 1995, Introduction other

Books etc

• シリコン結晶技術 ―成長・加工・欠陥制御・評価―
  Nov. 2014, Contributor, 5.3.1 汚染分析(化学分析：NAA, ICP-MS, TXRF)、5.3.2 汚染分析(物理分析：SIMS, EPMA/SEM-EDS)
• 機器分析の事典
  日本分析化学会
  朝倉書店, 25 Nov. 2005, Contributor, No.68 全反射蛍光X線分析
• X-ray spectrometry : recent technological advances
  Tsuji, Kouichi; Injuk, Jasna; Grieken, R. van (René)
  John Wiley, 16 Apr. 2004, Contributor, 7.2
• 超精密ウェーハ表面制御技術
  松下, 嘉明
  サイエンスフォーラム, Feb. 2000, Contributor, 第9章第2節
• シリコンウェーハの洗浄と分析
  島ノ江 憲剛
  リアライズ理工センター, 28 Apr. 1998, Contributor, 第4章、第5章
• ウェーハ表面完全性の創成・評価技術
  津屋英樹
  サイエンスフォーラム, 01 Mar. 1998, Contributor, 第2章第5節

Presentations

• イノベーションを起こすのは"人"
  森良弘
  第72回応用物理学会春季学術講演会シンポジウム, 15 Mar. 2025, Keynote oral presentation
• 『イノベーションマネジメント』 ～何をどう革新すればいいのか？～
  森良弘
  2024年度 中小企業者等研修 第45期 経営後継者研修 在校生・卒業生合同研修会 基調講演, 14 Feb. 2025, Keynote oral presentation
• MBA入門シリーズ講座 イノベーションマネジメント
  森良弘
  同志社大学大学院ビジネス研究科, 10 Nov. 2024, Public discourse
• イノベーション・オブ・ライフ
  森良弘
  新島塾「合宿で鍛える知的基礎体力」, 06 Sep. 2024, Public discourse
• MBA入門シリーズ講座 イノベーションマネジメント
  森良弘
  同志社大学大学院ビジネス研究科, 30 Jun. 2024, Public discourse
• 技術開発×ビジネス
  森良弘
  「次の環境」協創コース ミニワークショップ, 27 Feb. 2024
• イノベーションをマネジメントする ～経営学の視点から～
  森良弘
  日本分析化学会 分析イノベーション交流会, 08 Feb. 2024, 07 Feb. 2024, 08 Feb. 2024
• MBA入門シリーズ講座 イノベーションマネジメント
  森良弘
  同志社大学大学院ビジネス研究科, 03 Dec. 2023, Public discourse
• イノベーション創出につながるネットワークづくりへの貢献
  森良弘
  京都工業会, 05 Sep. 2023, Others
• MBA入門シリーズ講座 イノベーションマネジメント
  森良弘
  同志社大学大学院ビジネス研究科, 23 Jul. 2023, Public discourse
• パネルディスカッション 分析化学の将来をどう切り開くか
  森良弘
  日本分析化学会近畿支部創設70周年記念式典, 24 Jun. 2023, Nominated symposium
• MBA入門講座 イノベーションマネジメント
  森良弘
  同志社大学大学院ビジネス研究科, 25 Dec. 2022, Public discourse
• イノベーション論の最近の潮流 ～「探索」できる組織の構築～
  森良弘
  SEAJ運営委員会特別講演, 19 May 2022, Public discourse
• 技術で勝ってビジネスで負ける？
  森良弘
  応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会 第4回INE Link, 10 May 2022, Public discourse
• ビジネスにおける技術者の認知バイアス
  森良弘
  日本ビジネスモデル学会関西部会 第４回アカデミックフォーラム, 15 Dec. 2021, Public discourse
• 技術開発と認知バイアス
  森良弘
  日本半導体製造装置協会(SEAJ) イノベーション創出ワークショップ, 03 Mar. 2021, Oral presentation
• 技術開発プロジェクトの意思決定におけるバイアスの影響
  森良弘; 北寿郎
  プロジェクトマネジメント学会 2018年度 秋季研究発表大会, 同志社大学, 31 Aug. 2018, Oral presentation
• Industrial Application and Standardization of TXRF
  Yoshihiro Mori
  16th International Conference on Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis and Related Methods (TXRF2015) and 64th Annual Denver X-ray Conference, Aug. 2015, Aug. 2015, Aug. 2015, Keynote oral presentation
• Tutorial: Standardization of TXRF for Si Analysis – Historical and Recent Topics
  Yoshihiro Mori
  TXRF2015 Workshop, Aug. 2015, Public discourse
• TXRF2013 Special Session “Future of TXRF”
  Yoshihiro Mori
  The 15th International Conference on Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis and Related Methods (TXRF2013) and The 49th Annual Conference on X-Ray Chemical Analysis, Sep. 2013, Nominated symposium
• TXRF for Semiconductor Process Characterization
  Yoshihiro Mori
  9th Conference on Total Reflection X-ray Fluorescence Analysis and Related Methods, Sep. 2002, Sep. 2002, Sep. 2002, Invited oral presentation
• TXRF for Semiconductor Applications
  Yoshihiro Mori
  2001 Denver X-ray Conference, Jul. 2001, Jul. 2001, Aug. 2001, Invited oral presentation
• Standard Sample Preparation for Quantitative TXRF
  Yoshihiro Mori; Kengo Shimanoe
  The 5th Workshop on Total Reflection X-ray Fluorescence Spectroscopy and Related Spectroscopical Methods, Oct. 1994, Oct. 1994, Invited oral presentation

Industrial Property Rights

• Patent right
  比較電極システム
  宮村 和宏, 中井 陽子, 森 良弘, 駒田 世志人, 有本 公彦, 辻岡 唯二, 世古 朋子, 箕輪 大輝
  特願2015-234659, 特開2016-109690, 特許第6737587号, 株式会社堀場製作所
• Patent right
  基準値取得装置、測定システム、及び、基準値取得方法
  森 良弘, 土坂 祐太郎, 高木 想, 横山 一成, 塩田 侑里子
  特願2017-219071, 特開2019-090668, 株式会社 堀場アドバンスドテクノ
• Patent right
  液体試料分析装置
  森 良弘, 青山 朋樹
  特願2015-213156, 特開2017-083345, 株式会社堀場製作所
• Patent right
  比較電極システム
  宮村 和宏, 中井 陽子, 森 良弘, 駒田 世志人, 有本 公彦, 辻岡 唯二, 世古 朋子, 箕輪 大輝
  特願2015-234659, 特開2016-109690, 株式会社堀場製作所
• Patent right
  超音波洗浄方法
  久保 悦子, 榛原 照男, 森 良弘, 内部 眞佐志
  特願2012-118633, 特開2013-247183, 特許第5894858号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法
  榛原 照男, 久保 悦子, 森 良弘, 内部 眞佐志
  特願2012-118634, 特開2013-247184, 特許第5872382号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法
  榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
  特願2011-283338, 特開2013-135037, 特許第5526118号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  洗浄装置、洗浄設備および洗浄方法
  森 良弘, 榛原 照男, 内部 眞佐志, 久保 悦子
  特願2012-015450, 特開2013-157391, 特許第5470409号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
  内部 眞佐志, 森 良弘, 榛原 照男, 久保 悦子
  特願2012-118636, 特開2013-247186, 特許第5453488号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
  森 良弘, 内部 眞佐志, 榛原 照男, 久保 悦子
  特願2012-118635, 特開2013-247185, 特許第5453487号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  シリコンウェハの金属不純物分析方法
  森 良弘, 前田 哲男
  特願2010-286159, 特開2012-132826, 特許第5442589号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
  内部 眞佐志, 森 良弘, 榛原 照男, 久保 悦子
  特願2012-118636, 特開2013-247186, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
  森 良弘, 内部 眞佐志, 榛原 照男, 久保 悦子
  特願2012-118635, 特開2013-247185, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
  久保 悦子, 榛原 照男, 森 良弘, 内部 眞佐志
  特願2012-118633, 特開2013-247183, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  洗浄装置、測定方法および校正方法
  榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
  特願2011-242129, 特開2013-096937, 特許第5398806号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  洗浄方法
  森 良弘, 榛原 照男, 内部 眞佐志, 久保 悦子
  特願2012-016722, 特開2013-157443, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  洗浄装置、洗浄設備および洗浄方法
  森 良弘, 榛原 照男, 内部 眞佐志, 久保 悦子
  特願2012-015450, 特開2013-157391, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄方法
  榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
  特願2011-283338, 特開2013-135037, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  溶存窒素濃度のモニタリング方法
  榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
  特願2010-283078, 特開2012-132708, 特許第5298112号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  洗浄装置、測定方法および校正方法
  榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
  特願2011-242129, 特開2013-096937, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  シリコンウェハの金属不純物分析方法
  森 良弘, 前田 哲男
  特願2010-286159, 特開2012-132826, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  溶存窒素濃度のモニタリング方法
  榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
  特願2010-283078, 特開2012-132708, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体ウェーハを湿式化学的処理する方法
  ギュンター シュヴァープ, クレメンス ツァピルコ, トーマス ブッシュハルト, ディエゴ フェイホー, 榛原 照男, 森 良弘
  特願2008-293975, 特開2009-141347, 特許第4948508号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体ウエハの洗浄方法及び洗浄装置
  森 良弘
  特願2009-285574, 特開2010-171395, 特許第4890606号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体基板の洗浄方法
  森 良弘
  特願2006-056412, 特開2007-234964, 特許第4817887号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体ウェーハの超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置
  内部 眞佐志, 榛原 照男, 森 良弘
  特願2010-231107, 特開2011-155240, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体ウエハの超音波洗浄装置及び洗浄方法
  森 良弘
  特願2009-130610, 特開2010-278305, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  フレームレス原子吸光法によるアルミニウムの分析方法
  森 良弘
  特願2009-127275, 特開2010-276398, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体ウエハの洗浄方法及び洗浄装置
  森 良弘
  特願2009-285574, 特開2010-171395, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法
  毛利 敬史, 榛原 照男, 森 良弘
  特願2008-329235, 特開2010-153541, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体ウェーハを湿式化学的処理する方法
  ギュンター シュヴァープ, クレメンス ツァピルコ, トーマス ブッシュハルト, ディエゴ フェイホー, 榛原 照男, 森 良弘
  特願2008-293975, 特開2009-141347, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  シリコンエッチング方法
  森 良弘, 下村 文二
  特願2007-318555, 特開2008-182201, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  電子材料用洗浄液および洗浄方法
  榛原 照男, 森 良弘, 毛利 敬史
  特願2007-277936, 特開2008-182188, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  疎水性シリコンウエハ用洗浄水及びそれを用いた洗浄方法
  毛利 敬史, 榛原 照男, 森 良弘, 森田 博志, 井田 純一
  特願2006-352646, 特開2008-166404, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト, 栗田工業株式会社
• Patent right
  洗浄方法及び洗浄装置
  毛利 敬史, 榛原 照男, 森 良弘
  特願2006-353071, 特開2008-166426, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  シリコンウエハ表面損傷評価方法
  山田 豊, 森 良弘
  特願2006-341715, 特開2008-153538, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  シリコンウェハのウェット処理方法
  榛原 照男, 森 良弘
  特願2007-241474, 特開2008-103701, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  全反射蛍光X線分析装置
  森 良弘, 河野 浩, 清水 康裕, 松尾 勝
  特願2005-027960, 特開2006-214868, 特許第4095991号, シルトロニック・ジャパン株式会社, 理学電機工業株式会社
• Patent right
  シリコンウエハ表面の不純物除去方法
  薦田 光徳, 森 良弘
  特願2006-194375, 特開2008-021924, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体基板の洗浄方法
  森 良弘
  特願2006-056412, 特開2007-234964, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  半導体ウエーハ研磨剤用金属汚染防止剤
  森 良弘, 田畑 誠
  特願2005-262533, 特開2007-073908, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
• Patent right
  全反射蛍光X線分析装置
  森 良弘, 河野 浩, 清水 康裕, 松尾 勝
  特願2005-027960, 特開2006-214868, シルトロニック・ジャパン株式会社, 理学電機工業株式会社
• Patent right
  アルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法
  西村 茂樹, 森 良弘, 林 徳之
  特願2004-278064, 特開2006-093453, シルトロニック・ジャパン株式会社
• Patent right
  半導体基板の洗浄方法
  大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平8-085339, 特開平9-278600, 特許第3749567号, シルトロニック・ジャパン株式会社
• Patent right
  エッチング液、エッチング方法及び半導体ウェーハ
  森 良弘, 西村 茂樹
  特願2004-159781, 特開2005-340649, シルトロニック・ジャパン株式会社
• Patent right
  シリコンウェハおよびシリコン酸化物の洗浄液
  上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
  特願平8-248266, 特開平10-098018, 特許第3649534号, シルトロニック・ジャパン株式会社
• Patent right
  蛍光X線分析装置
  森 良弘, 山田 隆, 清水 一明
  特願2001-191042, 特開2003-004672, 理学電機工業株式会社
• Patent right
  分析位置設定手段を備えた蛍光X線分析方法およびその装置
  森 良弘, 山上 基行
  特願2000-165537, 特開2001-343339, 理学電機工業株式会社, ワッカー・エヌエスシーイー株式会社
• Patent right
  保管容器
  森 良弘, 上村 賢一, 薦田 光▲徳▼, 榛原 照男, 森本 敏弘
  特願平11-333985, 特開2001-151274, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  半導体基板の洗浄方法及び半導体基板
  森 良弘, 上村 賢一, 大塚 進, 森本 敏弘
  特願平10-297050, 特開2000-124182, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蒸気洗浄方法
  島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099231, 特開平7-283192, 特許第3040307号, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蒸気洗浄装置
  島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099228, 特開平7-283190, 特許第3040306号, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蛍光X線分析装置
  森 良弘, 庄司 孝
  特願平10-221460, 特開2000-055839, 新日本製鐵株式会社, 理学電機工業株式会社
• Patent right
  シリコン半導体およびシリコン酸化物の洗浄液
  佐近 正, 上村 賢一, 森 良弘, 島ノ江 憲剛, 大塚 進, 宗平 修司
  特願平5-283845, 特開平7-115077, 特許第2857042号, 新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
• Patent right
  シリコンウェハおよびシリコン酸化物の洗浄液
  上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
  特願平8-248266, 特開平10-098018, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  微粒子除去方法
  上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
  特願平8-114510, 特開平9-298182, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  金属除去方法
  上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
  特願平8-114511, 特開平9-298178, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  試料分析方法および装置
  森 良弘
  特願平8-100980, 特開平9-288092, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  半導体基板の洗浄方法
  大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平8-085342, 特開平9-283480, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  シリコン酸化膜の形成方法
  上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
  特願平8-085341, 特開平9-283517, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  半導体基板中のAlの分析方法およびその装置
  森 良弘
  特願平8-085340, 特開平9-283583, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  半導体基板の洗浄方法
  大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平8-085339, 特開平9-278600, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  半導体基板用洗浄液
  大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平8-085343, 特開平9-279189, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  全反射蛍光X線分析装置の管理方法
  森 良弘
  特願平7-224601, 特開平9-054051, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蒸気洗浄方法
  島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099231, 特開平7-283192, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蒸気洗浄方法
  島ノ江 憲剛, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099230, 特開平7-283191, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蒸気洗浄装置
  島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099227, 特開平7-283189, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蒸気洗浄装置
  島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099228, 特開平7-283190, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  蒸気洗浄装置
  島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099226, 特開平7-283188, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  洗浄液乾燥装置
  島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
  特願平6-099229, 特開平7-283193, 新日本製鐵株式会社
• Patent right
  洗浄液及び洗浄方法
  森 良弘, 佐近 正, 上村 賢一, 畑中 裕行, 垂永 伸二
  特願平6-058258, 特開平7-245281, 新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
• Patent right
  シリコン半導体およびシリコン酸化物の洗浄液
  佐近 正, 上村 賢一, 森 良弘, 島ノ江 憲剛, 大塚 進, 宗平 修司
  特願平5-283845, 特開平7-115077, 新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
• Patent right
  シリコンウェハ表面の金属汚染分析用標準試料の作製方法
  森 良弘, 佐近 正
  特願平5-039055, 特開平6-249764, 新日本製鐵株式会社

Research Projects

• 技術開発組織における技術選択に関する研究―個人の意思決定に着目して―
  森 良弘
  日本学術振興会, 科学研究費助成事業 基盤研究(C), 2023/04 -2027/03, 基盤研究(C), 同志社大学
• 技術者の認知バイアスが技術判断に及ぼす影響に関する研究
  森 良弘
  日本学術振興会, 科学研究費助成事業 研究活動スタート支援, 2022/08 -2024/03, 研究活動スタート支援, 同志社大学

Social Contribution

• JIS K 0181:2021 「表面化学分析－水溶液の全反射蛍光Ｘ線分析方法」, 日本規格協会, 2021/11/22, Others
• ISO 17331:2004/Amd 1:2010 Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy, ISO, 2010/07/15, Others
• JIS K 0160:2009 「表面化学分析－シリコンウェーハ表面からの金属の化学的回収方法及び全反射蛍光Ｘ線（TXRF）分析法による定量方法」, 日本規格協会, 2009/07/20, Others
• JIS K 0148:2005 「表面化学分析－全反射蛍光X 線分析法（TXRF）によるシリコンウェーハ 表面汚染元素の定量方法」, 日本規格協会, 2005/03/20, Others
• ISO17331:2004 Surface chemical analysis — Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy, ISO, 2004/05/15, Others
• ISO14706:2000 Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy, ISO, 2000/12/01, Others

Teaching Experience

• イノベーション基礎
  同志社大学 全学共通教養教育科目
• Marketing
  Kyushu University
• オープンイノベーション
  同志社大学 大学院 ビジネス研究科
• Strategic Management for Innovation and Change
  Graduate School of Business, Global Business and Management Studies, Doshisha University
• ビジネスモデルイノベーション
  同志社大学 大学院 ビジネス研究科
• イノベーションマネジメント
  同志社大学 大学院 ビジネス研究科
• マネージメント研究
  同志社女子大学 学芸学部 メディア創造学科
• 物質変換化学特論
  高知大学