特許権
比較電極システム
宮村 和宏, 中井 陽子, 森 良弘, 駒田 世志人, 有本 公彦, 辻岡 唯二, 世古 朋子, 箕輪 大輝
特願2015-234659, 特開2016-109690, 特許第6737587号, 株式会社堀場製作所
特許権
基準値取得装置、測定システム、及び、基準値取得方法
森 良弘, 土坂 祐太郎, 高木 想, 横山 一成, 塩田 侑里子
特願2017-219071, 特開2019-090668, 株式会社 堀場アドバンスドテクノ
特許権
液体試料分析装置
森 良弘, 青山 朋樹
特願2015-213156, 特開2017-083345, 株式会社堀場製作所
特許権
比較電極システム
宮村 和宏, 中井 陽子, 森 良弘, 駒田 世志人, 有本 公彦, 辻岡 唯二, 世古 朋子, 箕輪 大輝
特願2015-234659, 特開2016-109690, 株式会社堀場製作所
特許権
超音波洗浄方法
久保 悦子, 榛原 照男, 森 良弘, 内部 眞佐志
特願2012-118633, 特開2013-247183, 特許第5894858号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法
榛原 照男, 久保 悦子, 森 良弘, 内部 眞佐志
特願2012-118634, 特開2013-247184, 特許第5872382号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法
榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
特願2011-283338, 特開2013-135037, 特許第5526118号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
洗浄装置、洗浄設備および洗浄方法
森 良弘, 榛原 照男, 内部 眞佐志, 久保 悦子
特願2012-015450, 特開2013-157391, 特許第5470409号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
内部 眞佐志, 森 良弘, 榛原 照男, 久保 悦子
特願2012-118636, 特開2013-247186, 特許第5453488号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
森 良弘, 内部 眞佐志, 榛原 照男, 久保 悦子
特願2012-118635, 特開2013-247185, 特許第5453487号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
シリコンウェハの金属不純物分析方法
森 良弘, 前田 哲男
特願2010-286159, 特開2012-132826, 特許第5442589号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
内部 眞佐志, 森 良弘, 榛原 照男, 久保 悦子
特願2012-118636, 特開2013-247186, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
森 良弘, 内部 眞佐志, 榛原 照男, 久保 悦子
特願2012-118635, 特開2013-247185, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法および超音波洗浄装置
久保 悦子, 榛原 照男, 森 良弘, 内部 眞佐志
特願2012-118633, 特開2013-247183, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
洗浄装置、測定方法および校正方法
榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
特願2011-242129, 特開2013-096937, 特許第5398806号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
洗浄方法
森 良弘, 榛原 照男, 内部 眞佐志, 久保 悦子
特願2012-016722, 特開2013-157443, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
洗浄装置、洗浄設備および洗浄方法
森 良弘, 榛原 照男, 内部 眞佐志, 久保 悦子
特願2012-015450, 特開2013-157391, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄方法
榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
特願2011-283338, 特開2013-135037, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
溶存窒素濃度のモニタリング方法
榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
特願2010-283078, 特開2012-132708, 特許第5298112号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
洗浄装置、測定方法および校正方法
榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
特願2011-242129, 特開2013-096937, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
シリコンウェハの金属不純物分析方法
森 良弘, 前田 哲男
特願2010-286159, 特開2012-132826, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
溶存窒素濃度のモニタリング方法
榛原 照男, 田邊 悦子, 内部 眞佐志, 森 良弘
特願2010-283078, 特開2012-132708, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体ウェーハを湿式化学的処理する方法
ギュンター シュヴァープ, クレメンス ツァピルコ, トーマス ブッシュハルト, ディエゴ フェイホー, 榛原 照男, 森 良弘
特願2008-293975, 特開2009-141347, 特許第4948508号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体ウエハの洗浄方法及び洗浄装置
森 良弘
特願2009-285574, 特開2010-171395, 特許第4890606号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体基板の洗浄方法
森 良弘
特願2006-056412, 特開2007-234964, 特許第4817887号, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体ウェーハの超音波洗浄方法及び超音波洗浄装置
内部 眞佐志, 榛原 照男, 森 良弘
特願2010-231107, 特開2011-155240, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体ウエハの超音波洗浄装置及び洗浄方法
森 良弘
特願2009-130610, 特開2010-278305, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
フレームレス原子吸光法によるアルミニウムの分析方法
森 良弘
特願2009-127275, 特開2010-276398, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体ウエハの洗浄方法及び洗浄装置
森 良弘
特願2009-285574, 特開2010-171395, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
超音波洗浄装置及び超音波洗浄方法
毛利 敬史, 榛原 照男, 森 良弘
特願2008-329235, 特開2010-153541, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体ウェーハを湿式化学的処理する方法
ギュンター シュヴァープ, クレメンス ツァピルコ, トーマス ブッシュハルト, ディエゴ フェイホー, 榛原 照男, 森 良弘
特願2008-293975, 特開2009-141347, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
シリコンエッチング方法
森 良弘, 下村 文二
特願2007-318555, 特開2008-182201, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
電子材料用洗浄液および洗浄方法
榛原 照男, 森 良弘, 毛利 敬史
特願2007-277936, 特開2008-182188, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
疎水性シリコンウエハ用洗浄水及びそれを用いた洗浄方法
毛利 敬史, 榛原 照男, 森 良弘, 森田 博志, 井田 純一
特願2006-352646, 特開2008-166404, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト, 栗田工業株式会社
特許権
洗浄方法及び洗浄装置
毛利 敬史, 榛原 照男, 森 良弘
特願2006-353071, 特開2008-166426, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
シリコンウエハ表面損傷評価方法
山田 豊, 森 良弘
特願2006-341715, 特開2008-153538, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
シリコンウェハのウェット処理方法
榛原 照男, 森 良弘
特願2007-241474, 特開2008-103701, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
全反射蛍光X線分析装置
森 良弘, 河野 浩, 清水 康裕, 松尾 勝
特願2005-027960, 特開2006-214868, 特許第4095991号, シルトロニック・ジャパン株式会社, 理学電機工業株式会社
特許権
シリコンウエハ表面の不純物除去方法
薦田 光徳, 森 良弘
特願2006-194375, 特開2008-021924, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体基板の洗浄方法
森 良弘
特願2006-056412, 特開2007-234964, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
半導体ウエーハ研磨剤用金属汚染防止剤
森 良弘, 田畑 誠
特願2005-262533, 特開2007-073908, ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
特許権
全反射蛍光X線分析装置
森 良弘, 河野 浩, 清水 康裕, 松尾 勝
特願2005-027960, 特開2006-214868, シルトロニック・ジャパン株式会社, 理学電機工業株式会社
特許権
アルカリエッチング液及びアルカリエッチング方法
西村 茂樹, 森 良弘, 林 徳之
特願2004-278064, 特開2006-093453, シルトロニック・ジャパン株式会社
特許権
半導体基板の洗浄方法
大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平8-085339, 特開平9-278600, 特許第3749567号, シルトロニック・ジャパン株式会社
特許権
エッチング液、エッチング方法及び半導体ウェーハ
森 良弘, 西村 茂樹
特願2004-159781, 特開2005-340649, シルトロニック・ジャパン株式会社
特許権
シリコンウェハおよびシリコン酸化物の洗浄液
上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
特願平8-248266, 特開平10-098018, 特許第3649534号, シルトロニック・ジャパン株式会社
特許権
蛍光X線分析装置
森 良弘, 山田 隆, 清水 一明
特願2001-191042, 特開2003-004672, 理学電機工業株式会社
特許権
分析位置設定手段を備えた蛍光X線分析方法およびその装置
森 良弘, 山上 基行
特願2000-165537, 特開2001-343339, 理学電機工業株式会社, ワッカー・エヌエスシーイー株式会社
特許権
保管容器
森 良弘, 上村 賢一, 薦田 光▲徳▼, 榛原 照男, 森本 敏弘
特願平11-333985, 特開2001-151274, 新日本製鐵株式会社
特許権
半導体基板の洗浄方法及び半導体基板
森 良弘, 上村 賢一, 大塚 進, 森本 敏弘
特願平10-297050, 特開2000-124182, 新日本製鐵株式会社
特許権
蒸気洗浄方法
島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099231, 特開平7-283192, 特許第3040307号, 新日本製鐵株式会社
特許権
蒸気洗浄装置
島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099228, 特開平7-283190, 特許第3040306号, 新日本製鐵株式会社
特許権
蛍光X線分析装置
森 良弘, 庄司 孝
特願平10-221460, 特開2000-055839, 新日本製鐵株式会社, 理学電機工業株式会社
特許権
シリコン半導体およびシリコン酸化物の洗浄液
佐近 正, 上村 賢一, 森 良弘, 島ノ江 憲剛, 大塚 進, 宗平 修司
特願平5-283845, 特開平7-115077, 特許第2857042号, 新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
特許権
シリコンウェハおよびシリコン酸化物の洗浄液
上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
特願平8-248266, 特開平10-098018, 新日本製鐵株式会社
特許権
微粒子除去方法
上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
特願平8-114510, 特開平9-298182, 新日本製鐵株式会社
特許権
金属除去方法
上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
特願平8-114511, 特開平9-298178, 新日本製鐵株式会社
特許権
試料分析方法および装置
森 良弘
特願平8-100980, 特開平9-288092, 新日本製鐵株式会社
特許権
半導体基板の洗浄方法
大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平8-085342, 特開平9-283480, 新日本製鐵株式会社
特許権
シリコン酸化膜の形成方法
上村 賢一, 森 良弘, 大塚 進
特願平8-085341, 特開平9-283517, 新日本製鐵株式会社
特許権
半導体基板中のAlの分析方法およびその装置
森 良弘
特願平8-085340, 特開平9-283583, 新日本製鐵株式会社
特許権
半導体基板の洗浄方法
大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平8-085339, 特開平9-278600, 新日本製鐵株式会社
特許権
半導体基板用洗浄液
大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平8-085343, 特開平9-279189, 新日本製鐵株式会社
特許権
全反射蛍光X線分析装置の管理方法
森 良弘
特願平7-224601, 特開平9-054051, 新日本製鐵株式会社
特許権
蒸気洗浄方法
島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099231, 特開平7-283192, 新日本製鐵株式会社
特許権
蒸気洗浄方法
島ノ江 憲剛, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099230, 特開平7-283191, 新日本製鐵株式会社
特許権
蒸気洗浄装置
島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099227, 特開平7-283189, 新日本製鐵株式会社
特許権
蒸気洗浄装置
島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099228, 特開平7-283190, 新日本製鐵株式会社
特許権
蒸気洗浄装置
島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099226, 特開平7-283188, 新日本製鐵株式会社
特許権
洗浄液乾燥装置
島ノ江 憲剛, 窪田 和彦, 大塚 進, 上村 賢一, 森 良弘
特願平6-099229, 特開平7-283193, 新日本製鐵株式会社
特許権
洗浄液及び洗浄方法
森 良弘, 佐近 正, 上村 賢一, 畑中 裕行, 垂永 伸二
特願平6-058258, 特開平7-245281, 新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
特許権
シリコン半導体およびシリコン酸化物の洗浄液
佐近 正, 上村 賢一, 森 良弘, 島ノ江 憲剛, 大塚 進, 宗平 修司
特願平5-283845, 特開平7-115077, 新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
特許権
シリコンウェハ表面の金属汚染分析用標準試料の作製方法
森 良弘, 佐近 正
特願平5-039055, 特開平6-249764, 新日本製鐵株式会社